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UVTM · MgO靶材, 氧化镁靶材, 氧化镁溅射靶, 高纯氧化镁靶材, MgO溅射靶材, 高纯MgO靶, 旋转MgO靶, 半导体镀
| 产地 | 其他 |
|---|---|
| 品名 | 其他 |
| 品牌 | UVTM |
| 密度 | 根据客户要求定制 |
| 牌号 | Mg99.98 |
| 用途 | 半导体镀膜 |
| 重量 | 定制 |
| 杂质含量 | 100ppm |
| 规格尺寸 | 根据客户要求定制 |
| 镁含量≥ | 99.99% |
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品名:其他;牌号:Mg99.98;产地:其他;镁含量≥:99.99%;杂质含量:100ppm;重量:定制;品牌:UVTM;密度:根据客户要求定制;规格尺寸:根据客户要求定制;用途:半导体镀膜;起订量:1套;发货期限:15天;发货地:广州市
氧化镁靶材又称MgO靶材、氧化镁溅射靶,是一种高纯陶瓷溅射靶材,纯度稳定99.99%及以上(4N级),金属杂质单项控制在每百万分之十以内,材料纯净稳定。靶材密度达3.15克每立方厘米及以上,所成氧化镁薄膜绝缘性、介电与热稳定性优异。旋转靶经靶管焊接绑定,单件与整体结合率分别达96%与97%以上,溅射稳定、利用率高,最长拼接4000毫米。作为溅射靶材,主要用于半导体器件的功能薄膜与介电绝缘层,作集成电路、功率器件及氮化镓、碳化硅化合物半导体缓冲层,也用于精密光学与铁电薄膜镀膜。
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